第61章 密度的重量[1/2]

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凌晨一点，燧人科技三楼的碳化硅实验室依旧灯火通明。

林海双眼布满血丝，死死盯着电脑屏幕上那行反复核对的数据：“defect

density:

798

cm?2”。旁边实验台上，是从第六号生长炉中刚取出的、泛着暗哑光泽的4英寸碳化硅晶锭。在特定角度的灯光下，能隐约看到晶面上极其细微的生长纹路。

“七百九十八……”林海喃喃自语，手指无意识地敲着桌面。这个数字像一剂强心针，让连续三十六个小时没合眼的疲惫感暂时退去，但随之而来的是更深的焦虑——突破八百是惊喜，但稳定在八百以下，才是真正的门槛。

他知道，在上海谈判时陆晨展示的“最好数据”是八百零五。而现在，他们刷新了自己的记录。这意味着石墨烯缓冲层的工艺窗口正在被逐步摸清，但下一次呢？下下次呢？工业化生产要的是重复性，是稳定。

手机屏幕亮起，是陆晨发来的消息，简洁直接：“数据已确认。明早九点，带最近五炉所有工艺记录和原始图谱，第一会议室复盘。另，庆功宴改到明晚，地点你定。”

复盘，意味着要从成功中找到必然，再把必然变成标准。

林海深吸一口气，在实验记录本上写下：“第21炉，dd-798。关键变量：缓冲层退火阶梯时长调整（+3min），前驱体流量微调（-2%），热场温度梯度二次优化……”他写得很快，生怕那些在头脑中一闪而过的灵感和细节随着倦意溜走。

同一时刻，厂区另一头的柔性电子实验室里，却是截然不同的景象。灯火通明，却安静有序。沈南星穿着防静电服，正陪同从南京赶来的刘教授，将三片封装在特制惰性气体盒中的透明电极样品，小心翼翼地装入带有减震层的银色保密运输箱。

箱体表面贴着醒目的标签：「燧人科技

·

新型透明导电薄膜a型样品」「收件人：北京，材料科学国家实验室，郑怀民

研究员」「运输要求：恒温15-25c，防震，防电磁干扰」。

“刘教授，最后确认一遍性能参数。”沈南星的声音在安静的洁净室里格外清晰。

旁边穿着白大褂的技术员立刻调出数据屏：“样品s-0307a，基材pet，石墨烯/银纳米线复合结构。平均透光率91.2%，波动范围±0.3%。平均面电阻49.3欧姆/平方，均匀性偏差＜5%。耐弯折测试，5000次循环后电阻变化率＜8%。”

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