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周一清晨六点,陆晨抵达北京南站。
北方秋天的空气干冷,站台上呼出的白气很快消散。他拉着一个小行李箱,里面除了换洗衣物,就是封装好的碳化硅样品和技术资料。出站时,天空还是深蓝色,路灯还没熄。
出租车驶向海淀区。司机是个话不多的中年人,听到目的地是“中科院半导体所”,从后视镜看了陆晨一眼:“去开会?”
“嗯。”
“搞半导体的?”
“算是。”
司机点点头,没再问。车子驶上三环,早高峰还没开始,车流顺畅。陆晨看着窗外,北京的天际线比江州高得多,玻璃幕墙在晨光中泛着冷光。
八点,他到达半导体所门口。李教授已经在等了,穿着件旧夹克,手里端着保温杯。
“陆晨,来得挺早。”李教授和他握手,“吃早饭没?”
“在车上吃了点。”
“那行,直接去会场。今天上午是闭门讨论,下午才是公开报告。”李教授边走边说,“来了不少专家,清华、北大、中科院,还有几家企业的。你准备讲哪部分?”
“石墨烯缓冲层的优势和最新进展。”陆晨说,“重点讲缺陷密度降到八百多的数据。”
“数据确实漂亮。”李教授推开会议楼的门,“但你要注意,这里的人都很懂行。他们不会只听数据,会问细节,问原理,问重复性。你得准备好。”
“明白。”
会议室里已经坐了三四十人。长条桌,投影仪开着,幕布上显示着会议标题:“第三代半导体材料与器件关键技术研讨会”。气氛严肃,很少有人交谈,都在看手里的资料。
李教授带陆晨到后排坐下,低声介绍前排的几个人:“穿灰色西装那位是清华的王院士,国内碳化硅的权威。旁边戴眼镜的是中电科的首席专家。再旁边那位女士,是科技部专项办的处长。”
陆晨默默记下。这些人,随便一个的意见都可能影响一个产业的发展方向。
九点,会议开始。主持人简短开场后,王院士第一个发言。他讲的是碳化硅衬底产业化的现状和挑战,数据详实,观点犀利。
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