第170章 EUV光刻机?[1/2]

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因为我之前有过对90纳米芯片使用的八英寸晶圆的改良经验,所以提升晶圆的品质以及良品率交给我就行。”

听到林轩的话语,现场许多人纷纷点头表示认可。

确实,八英寸的晶圆相比六英寸的晶圆,最大的差别就是加工环节。

同一时间段里,使用八英寸晶圆生产芯片时能省下很多钱。

如果不计较成本的问题,六英寸的晶圆确实可以用,而且有林轩说过会提升晶圆的品质,这样就更好了。

“所以接下来我们的任务,就是从晶圆切割之后的一系列生产制造问题”

随着林轩的话语落地,现场的人们也再次点点头表示知道。

随后他们纷纷好奇地看着林轩,想看看林轩会怎么安排任务给他们。

不过此时的林轩却没有立马安排任务,毕竟林轩对于现场许多人根本就不了解,怎么能安排任务呢?

所以需要林轩说了一下目前遇到的难题有什么?

他们这些人需要研发什么设备,然后才能根据他们的意愿以及他们擅长什么而安排任科研务。

“芯片的生产有着很多机器,但一些机器目前我们汉唐科技已经在采用一百五十纳米的设备,这种设备改装一下也能勉强够用。”

“因为资金有限,所以我们的科研任务是放在绝对无法采购的核心设备,比如光刻机,刻蚀机,高能离子注入机,……”

顿了一下,林轩轻声接着道

“其中目前最难的就是光刻机以及刻蚀机,薄膜沉积设备,高能离子注入机。”

“薄膜沉积设备,岛国那边处于世界领先地位,此外我们还必须得攻克薄膜沉积设备使用的化学材料。

刻蚀机方面也是差不多的情况,目前最难的则是光刻机。”

但这时候有人开口说道

“光刻机其实也不算难,光刻机说到底不过是设备精度与镜头还有扫描曝光系统的问题,在光源上我们的问题不大。

我们大夏有世界领先的激光晶体kbbf,大夏在激光领域也是处于世界领先层次。”

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